IR推出IRFHE4250D FastIRFET双功率MOS

来源:中电网 | 2014-8-14

        IRFHE4250D配备IR新一代硅技术,并采用了适合背面贴装的6×6PQFN顶部外露纤薄封装,为电源拈带来更多封装选择。这款封装结合了出色的散热性能、低导通电阻(Rds(on))与栅极电荷(Qg),提供卓越的功率密度和较低的开关损耗,从而缩减电路板尺寸,提升整体系统效率。

        IR推出IRFHE4250DFastIRFET双功率MOSFET,藉以扩充电源拈组件系列。新款25V器件在25A的电流下能够比其它顶级的传统电源拈产品减少5%以上的功率损耗,适用于12V输入DC-DC同步降压应用,包括先进的电信和网络通讯设备、服务器、显卡、台式电脑、超极本(Ultrabook)和笔记本电脑等。

        IR亚太区销售副总裁潘大伟表示:“高达60A额定值的IRFHE4250DFastIRFETMOSFET是全球首款顶部外露电源拈器件,提供行业领先的功率密度,有效满足要求顶尖效率的高性能DC-DC应用。”

        与IR的其它电源拈器件一样,IRFHE4250D可与各种控制器或驱动器共同操作,以提供设计灵活性,同时以小的占位面积实现更高的电流、效率和频率,还为IR电源拈带来全新的6×6PQFN封装选择。

        IRFHE4250D符合工业标准及第二级湿度敏感度(MSL2)标准,并采用了6×6PQFN顶部外露封装,备有符合电子产品有害物质管制规定(RoHS)的环保物料清单。

 

规格

器件编号

封装

电流额定值

在4.5V下的

典型/最高

导通电阻

在4.5V下的

典型QG (nC)

在4.5V下的典型QGD (nC)

IRFHE4250D

PQFN

6mm × 6mm

60A

3.2 / 4.1

1.35 / 1.0

13

35

5. × 13


 
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