水平式等离子处理系统

印制电路板中主要用于多层硬板、软性电路板、软硬结合板去钻污（胶渣），激光钻孔后孔内碳化物处理，聚四氟乙烯印制板孔金属化前的孔壁活化、涂覆前的板面活化等处理。

微电子、光伏产业主要用于led芯片、支架清洗，祛除有机物和颗粒物；cob金线绑定前处理；ic方面bga、wafer表面清洁；lcd涂导电胶前处理；太阳能光伏、液晶玻璃中基板清洁；高分子材料改性；金属表面氧化物祛除。

医疗行业中培养皿处理、医疗器械消毒等等..............

设备构成：真空发生系统、人机界面、电气控制系统、真空腔体、系统集成水冷却系统、等离子发生器、机柜等几部分。

单次处理时间：15~30分钟。

人机界面：台湾研华工控。

系统执行元件：

1、气路元件：日本smc、德国festo、美国amisco。

2、气体质量流量计：日本horiba、德国hkc、美国洛蒙斯特、abb、艾默生。

3、电路控制：瑞士abb，德国施耐德，日本三菱、德国西门子。

4、真空管路：全306不锈钢、硬质合金钢。

5、高频功率管：德国西门子。

操作模式：自动、手动。

工艺气体通道：标准4路。（可定制）

等离子发生器：40khz高频电源、美国mks13.56mhz射频电源。

真空机组：日本爱发科油式真空机组、英国爱德华干式真空机组、德国普发真空。

型号hrs-vp-60l

腔体尺寸：长x宽x高=400mmx400mmx400mm

腔体容积：60升

型号hrs-vp-200l

腔体尺寸：长x宽x高=600mmx600mmx600mm

腔体容积：200升

型号hrs-vp-450l

腔体尺寸：长x宽x高=800mmx700mmx800mm

腔体容积：450升

型号hrs-vp-650l

腔体尺寸：长x宽x高=1000mmx900mmx700mm

腔体容积：650升