JMP-2B双盘金相试样磨抛机

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JMP-2B双盘金相磨抛机在金相试样制备过程中，试样的磨光与抛光是二项非常重要的工序，通常是采用金相试样预磨机和金相试样抛光机二种设备来完成，为适应我国工业和科技发展的需要，结合用户的使用要求，我公司新设计制造JMP-2B双盘金相磨抛机。该机经久耐用，维护保养也极为方便，使用时只需更换磨盘或抛盘，就能完成各种试样的粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序，为扩大不同试样的制备要求，该机的磨、抛盘直径均大于国内同类产品。可在工作面上有更多不同线速度的选择，可增加有效工作面20-30%，可提高试样的磨抛质量和试样的制备效率，并该机转动平稳，噪音低，是一种极为理想和功能完善的最佳金相制样设备。

JMP-2B双盘金相磨抛机主要参数：

磨盘直径：	250mm
砂纸直径：	230mm
抛盘直径：	220mm
研磨盘直径：	220mm
转　　速：	50-1500r/min
电　动　机：	变频电机/380V
外形尺寸：	710×620×350mm
净　　重：	80Kg